5月31日晚间，国内光刻胶龙头供应商之一的南大光电公告，自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。

认证评估结果显示，本次认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证，宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求，表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。

晶圆厂加速导入本土产品再获印证 两重因素助推光刻胶迎国产化机遇

近日，A股光刻胶板块表现亮眼，上周广信材料、彤程新材、晶瑞股份、南大光电、强力新材等多支个股强势上涨。今日也延续了这一火热行情，截至A股收盘，光刻胶指数（BK0884）收涨2.78%，个股中彤程新材涨停，芯碁微装涨超15%，华懋科技涨超9%。

消息面上，受日本信越化学KrF光刻胶对我国多家晶圆厂限供或断供影响，国内KrF光刻胶严重缺货。有业内人士表示，目前大陆多家晶圆厂正在加速验证导入彤程新材子公司北京科华的KrF光刻胶。

光大证券分析师吴裕5月29日发布研报称，目前，国内多家KrF光刻胶生产企业正在加速进行KrF光刻胶下游客户验证，少数KrF光刻胶产品已经顺利导入下游客户量产环节中。

而南大光电自主研制的高端ArF光刻胶产品再次通过客户认证，印证了晶圆厂加速导入本土产品的说法。

光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠。

目前，我国光刻胶产业在技术难度相对较低的PCB领域国产化率约50%，在技术难度较高的IC和FPD光刻胶领域国产化率约为5%，供需不匹配，亟需国产化。

天风证券分析师潘暕5月31日发布研报称，下游LCD产业向大陆转移、集成电路成熟制程扩产显著两重因素为国产光刻胶企业提供发展土壤与市场空间。在加速进口替代的趋势下，看好核心材料一体化+具备先发优势的龙头公司。