8月17日(周一),日本三井金属公司(Mitsui Kinzoku)表示,计划在马来西亚新建一家工厂,以扩大其高性能铜箔产品的产能至2030年以后,以满足人工智能和芯片领域日益增长的需求。
新工厂将建在该公司计划收购的现有马来西亚工厂毗邻地块上,预计于2031年投产,月产能规划为VSP铜箔1200吨、MicroThin铜箔400万平方米。
VSP铜箔用于服务器、路由器和交换机的高频电路板,随着AI基础设施项目采用更高等级的产品,其需求正在不断增长。
MicroThin铜箔用于半导体封装基板、光模块和智能手机主板,公司表示,该产品同样有望受益于AI服务器、数据中心和存储应用需求的持续增长。
此次扩产预计将使其总月产能提升至2033财年的VSP铜箔2600吨、MicroThin铜箔1200万平方米。
公司发言人表示,投资细节尚未确定。
本月初,三井金属曾表示,将在2030财年前投入约300亿日元(约1.89亿美元),将MicroThin铜箔月产能扩大至800万平方米。
该投资覆盖其日本上尾工厂和马来西亚子公司,加速了此前的扩产计划——到2028财年先将产能提升至月产600万平方米,再到2030财年达到800万平方米。
公司同时宣布投入70亿日元,扩建其中国台湾和马来西亚工厂的VSP铜箔产能,将月产能从此前计划的2028财年1200吨提升至2030财年的1400吨。
(文华综合)










