全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布，成功交付首台新型纳米压印光刻机。
（来源：佳能公司官网）
这里首先需要解释一下，佳能的纳米压印光刻（NIL）系统，与阿斯麦的光刻技术有什么区别。
传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上忠实再现。
佳能在去年十月发布了全球首台商业化纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，公司表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。
关键优势是便宜
佳能表示，相较于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造，纳米压印设备的构造更为简单，功耗仅需十分之一。同时还能通过单次压印形成复杂的三维电路图案，能够处理用于最先进逻辑芯片的极细电路。
这条芯片制造路线的开发从2014年启动。去年底开始，佳能与铠侠 (Kioxia)、大日本印刷合作开始销售这款设备。
这次交付的首台设备将被送往美国得克萨斯电子研究所。这是得克萨斯大学奥斯汀分校支持的一个团体，成员包括英特尔和其他芯片公司、公共部门和学术组织。这台设备将被用于芯片制造的研究与开发工作。
佳能光学产品副首席执行官Kazunori Iwamoto对媒体表示，公司计划在未来3-5年内，每年销售10-20台此类设备。
对于佳能来说，进一步推广纳米压印技术也存在一些挑战。首先由于“压印”的物理机制，这种光刻机需要更先进的技术防止细小的尘埃颗粒造成芯片缺陷。同时由于芯片制造涉及广泛的产业链，拓展更多公司、特别是材料企业加入“纳米压印产业链”对于佳能来说也非常重要。
