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苏大维格光刻机实现突破 ?业内指出“此光刻非彼光刻”!

光刻机实现突破?9月15日,苏大维格(300331.SZ)一则自称“已实现光刻机销售”的互动平台回复引爆市场,公司股价午后短时间内蹿升至涨停。不过,多位业内受访人士均表示,此光刻非彼光刻。一直以来,苏大维格主要生产的是激光直写光刻机,而非制造芯片用的掩膜光刻机。

苏大维格今天下午在投资者平台表示:“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口;同时,公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”该消息发出后,不少投资者直呼苏大维格是“国产之光”,市场情绪激烈。

不过,受访的多位业内人士均表示,苏大维格生产的光刻机并非大众所理解的芯片制造用光刻机。

CINNO Research研究总监刘雨实向记者介绍,“苏大维格的光刻机是指激光直写光刻机,与传统掩膜光刻相比,激光直写精度较差但成本也较低,多用于封装等领域,具有较高的灵活性。”

苏大维格半年度财报显示,公司的高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等,并未提及芯片生产用的掩模光刻产品。

据中航证券研报,泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中,直写光刻精度较低,多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域;掩模光刻目前主流形式为投影式,光刻精度高,可用于IC制造的前道工艺,后道先进封装,以及中高世代线的FPD生产。目前,掩模光刻技术主要由ASML等海外厂商掌握,而直写光刻在国内还有芯碁微装(688630.SH)等多家公司突破。

记者留意到,苏大维格2023半年报中曾提及,“公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售,并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”,与今天在投资者平台的回复内容类似。不过,今天公司在互动平台的表述,“光刻设备”一词变成了“光刻机”,引发市场遐想。

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半年报表述

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今天投资者平台表述

“我们业内一般称直写光刻设备为光雕机,用‘光刻机’称呼直写光刻设备是非常不专业的行为,不排除是有意为之。”一位业内人士向记者这样表示道。

对于苏大维格生产的是否为直写光刻设备、以光刻机来称呼直写光刻设备有何目的等问题,财联社记者今日多次尝试致电公司方面,但公司的投资者热线始终为“已关机”状态。目前,财联社记者已向公司证券部邮箱发送采访函,但截至发稿暂未收到回复。

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