【国产光刻胶技术迎重大突破 国内市场替代空间广阔】①近日,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,依托九峰山实验室工艺平台,支持华中科技大学团队研究“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。
②根据SEMI数据,大陆半导体光刻胶市场规模为5.93亿美元,同比增长20.47%,增速远高于全球半导体光刻胶市场。
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来源:上海有色金属网 分享
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