受益于多重曝光光刻工艺 掩膜版产业或将释放业绩弹性
2023-09-13 08:28:42
分享【受益于多重曝光光刻工艺 掩膜版产业或将释放业绩弹性】华泰证券研报指出，在多重曝光光刻工艺，增量最大的是半导体材料，尤其是光刻环节相关（四次曝光）。半导体材料中占比最大的是硅片达到35%，掩膜版占比为12%，光刻胶占比为6%。这其中硅片和掩膜版的上中游供应链相对集中，弹性较大。 (详情)
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