【SMM 光伏快讯】通威 26.03% 选择性发射极 TOPCon 电池获 ISFH 认证，光刻胶蚀刻实现 1600Ω/sq 方阻

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2026-11-10 11:53:13

通威研发团队在 TOPCon 电池上采用低成本光刻胶蚀刻工艺，实现方块电阻高达 1600Ω/sq 的选择性发射极结构，电池经德国 ISFH 认证效率达 26.03%，开路电压 746.5mV，成果发表于《Solar Energy Materials and Solar Cells》。选择性发射极即在金属栅线下方重掺杂、栅线之间轻掺杂，兼顾接触电阻与短波响应；方阻越高，栅间轻掺杂区越"轻"，对光的寄生吸收越少，但扩散与蚀刻的工艺窗口也越苛刻。以光刻胶而非常规掩膜方案实现 1600Ω/sq，核心考量是控制新增成本，使该结构具备向存量产线迁移的经济性。在市场注意力集中于 BC 与叠层的窗口期，TOPCon 量产效率的天花板仍在被工艺细化持续推高。该结果为庞大的存量 TOPCon 产线提供了一条不改路线的提效参照，距量产导入还需评估蚀刻工序的节拍、良率与耗材成本。

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