三井金属 8 月 10 日确认,计划至 2030 财年末投入约 2.66 亿美元(420 亿日元),扩产面向 AI 数据中心等领域的多款高阶铜箔产品。从其二季度财报及产能指引来看,高阶载体铜箔二季度月销量达 407 万平方米,放量速度超出此前预期,公司将 2028 年载体铜箔产能目标由 520 万㎡/ 月上调至 600 万㎡/ 月。高频基板用电解铜箔 VSP 布局中国台湾、马来西亚工厂;半导体极薄铜箔 MicroThin 推进日本上尾及马来西亚产线扩产;电容材料 FaradFlex 拟于中国台湾新建工厂。公司同时已开展 2035 年前后的市场需求评估,凸显 AI 算力对高阶铜箔形成刚性拉动。